MLCC陶瓷漿料均一性的一體化解決方案
均一性與穩(wěn)定性控制
MLCC陶瓷漿料作為MLCC生產(chǎn)的重要環(huán)節(jié),漿料的穩(wěn)定性和均一性影響著后續(xù)流延工藝和印刷工藝的效果,漿料如果易沉淀和易團(tuán)聚,陶瓷介質(zhì)的緊密型和穩(wěn)定性將會(huì)受到影響;陶瓷漿料中陶瓷粉體的粒徑會(huì)影響介質(zhì)層的厚度,陶瓷粉體粒徑過大不利于MLCC薄層化和小型化,此外還會(huì)影響MLCC產(chǎn)品的燒結(jié)性能、介電常數(shù)、介質(zhì)損耗,溫度特性及容量等多方面;陶瓷粉體的外貌形態(tài)也會(huì)影響MLCC的性能,因此在分散過程中,需盡可能減少陶瓷粉體的損傷。
奧法美嘉平臺(tái)提供整套的MLCC陶瓷漿料均一性與穩(wěn)定性解決方案,可用于快速評估、優(yōu)化陶瓷漿料的配方和工藝:HM&M珠磨機(jī)用于研磨分散MLCC陶瓷漿料、Nicomp粒度分析儀分析平均粒徑、AccuSizer顆粒計(jì)數(shù)器分析大粒子濃度,Lum穩(wěn)定性分析儀快速分析陶瓷漿料穩(wěn)定性,Entegris-ANOW濾芯過濾雜質(zhì)及大顆粒。 |
MLCC陶瓷漿料流程概述
陶瓷漿料的常規(guī)制備方法為:陶瓷粉體、粘合劑、溶劑等按一定比例經(jīng)過珠磨(球磨)得到初始漿料,珠磨機(jī)均質(zhì)陶瓷漿料后經(jīng)過過濾通過PSS的Nicomp粒度分析儀測試平均粒徑、AccuSizer顆粒計(jì)數(shù)器測試過大顆粒濃度、Lum穩(wěn)定性分析儀快速篩選陶瓷漿料配方穩(wěn)定性。
陶瓷漿料粒度控制
陶瓷粉體的粒徑大小對MLCC產(chǎn)品的燒結(jié)性能、介電常數(shù)、介質(zhì)損耗、溫度特性及容量等方面都有影響。在對陶瓷漿料粒徑進(jìn)行考察時(shí),主要評估其平均粒徑大小,大顆粒濃度等指標(biāo)。目前常見的陶瓷漿料分散方法主要采用珠磨機(jī)(也叫砂磨機(jī))進(jìn)行分散。
HM&M珠磨機(jī)
常見分散方法的球磨法或砂磨機(jī),在分散時(shí)物料、磨珠與機(jī)體之間的撞擊會(huì)對陶瓷漿料中的陶瓷粉體造成磨損,磨損的材料進(jìn)入漿液中會(huì)變成難以除去的雜質(zhì),這對漿料的純度產(chǎn)生不利的影響,此外,在某些特定情況下,球磨過程還會(huì)改變粉體的物理化學(xué)性質(zhì)。例如,增加晶格不完整性,形成表面無定形層等,影響后續(xù)燒結(jié)等工藝,日本HMM珠磨機(jī)的ADV機(jī)型能有效減少對陶瓷漿料的損傷。如下圖的TEM照片所示,采用HMM的UAM機(jī)型處理時(shí)有很多碎片,初步分析是由于粒子破壞而產(chǎn)生的鈦酸鋇,但是采用ADV機(jī)型處理中幾乎沒有發(fā)現(xiàn)鈦酸鋇碎片。
l 實(shí)驗(yàn)室研究工作用的珠磨機(jī),50cc、100cc和150cc三種容量可供選擇。(Apex Labo實(shí)驗(yàn)型)
l 無篩網(wǎng)設(shè)計(jì),沒有物料堵塞風(fēng)險(xiǎn),運(yùn)行平穩(wěn),無累積壓力,無壓力損失。
l 可處理高粘度漿料
l 可使用最小15um,最大0.5mm研磨珠,一臺(tái)設(shè)備滿足大多數(shù)物料研磨和分散需求。
平均粒徑檢測
陶瓷漿料中粉體的平均粒徑會(huì)影響MLCC產(chǎn)品的介電常數(shù),進(jìn)而影響MLCC高電容效率,同種介質(zhì)材料的介電常數(shù)存在尺寸效應(yīng),控制粉體的粒徑能有效提高介質(zhì)材料的介電常數(shù)。Yong 等發(fā)現(xiàn)粉體尺寸在約 140 nm 處存在介電常數(shù)的最大值,大于該值介電常數(shù)隨著粉體尺寸的減小而增加,小于此值介電常數(shù)隨著粉體尺寸減小而減小。1粉體的平均粒徑還會(huì)影響介質(zhì)層的厚度,從而影響MLCC的高電容效率和MLCC的薄層化、小型化。平均粒徑為小粒徑的產(chǎn)品具有較好的絕緣和耐電壓特性,小粒徑的BaTiO3產(chǎn)品(常見用于制備MLCC陶瓷漿料的陶瓷粉體材料)使用壽命將顯著延長2。
Nicomp納米激光粒度儀系列
Nicomp系列納米激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測分析樣品的粒度分布,基于多普勒電泳光散射原理檢測ZETA電位。
l 粒徑檢測范圍0.3nm-10μm,ZETA電位檢測范圍為+/-500mV
l 搭載Nicomp多峰算法,可以實(shí)時(shí)切換成多峰分布觀察各部分的粒徑。
l 高分辨率的納米檢測,Nicomp納米激光粒度儀對于小于10nm的粒子仍然現(xiàn)實(shí)較好的分辨率和準(zhǔn)確度。
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圖1∶高斯粒徑分布圖 | 圖2∶Nicomp多峰粒徑分布圖 |
尾端大粒子濃度檢測
目前MLCC使用的鈦酸鋇粉體粒徑極小,在80nm以下,粉體表面能較大,導(dǎo)致粉體的團(tuán)聚形成大顆粒,陶瓷漿料中粉體分布不均勻,會(huì)造成殼層厚度不均勻3,影響后續(xù)流延工藝和印刷工藝的效果。
AccuSizer顆粒計(jì)數(shù)器系列
AccuSizer系列在檢測液體中顆粒數(shù)量的同時(shí)精確檢測顆粒的粒度及粒度分布,通過搭配不同傳感器、進(jìn)樣器,適配不同的樣本的測試需求,能快速而準(zhǔn)確地測量顆粒粒徑以及顆粒數(shù)量/濃度。
l 檢測范圍為0.5μm-400μm(可將下限拓展至0.15μm)。
l 0.01μm的超高分辨率,AccuSizer系列具有1024個(gè)數(shù)據(jù)通道,能反映復(fù)雜樣品的細(xì)微差異,為研發(fā)及品控保駕護(hù)航。
l 靈敏度高達(dá)10PPT級別,即使只有微量的顆粒通過傳感器,也可以精準(zhǔn)檢測出來。
l 可出具法規(guī)報(bào)告
穩(wěn)定性分析檢測
陶瓷漿料的穩(wěn)定性影響其存放時(shí)間,陶瓷漿料是生產(chǎn)MLCC的第一個(gè)環(huán)節(jié),再進(jìn)行后續(xù)工藝,如流延、印刷,如果漿料穩(wěn)定性較差,在進(jìn)行上述工藝過程中發(fā)生了大量沉淀、團(tuán)聚,陶瓷介質(zhì)的緊密性和穩(wěn)定性將會(huì)受到影響。在陶瓷漿料制備中,控制尾端大粒子數(shù)量以及對漿料進(jìn)行分散能使陶瓷漿料更為穩(wěn)定。
LUM穩(wěn)定性分析儀
Lum穩(wěn)定性分析儀可以直接測量整個(gè)樣品的分散體的穩(wěn)定性,檢測和區(qū)分各種不穩(wěn)定現(xiàn)象,如上浮、絮凝、聚集、聚結(jié)、沉降等,通過測量結(jié)果可用來開發(fā)新的配方和優(yōu)化現(xiàn)有的配方及工藝。
l 快速、直接測試穩(wěn)定性,無需稀釋,溫度范圍寬廣
l 可同時(shí)測8個(gè)樣品,測量及辨別不同的不穩(wěn)定現(xiàn)象及不穩(wěn)定性指數(shù)
l 加速離心,最高等效2300倍重力加速度
過濾
過濾是在陶瓷漿料制備及使用過程中都非常重要的一道工序,用于除去CMP Slurry中的雜質(zhì)和尾端大顆粒,為后續(xù)流延、印刷工藝提供更好的原料。過濾時(shí)使用不同的膜將會(huì)影響物理攔截,吸附攔截等效果,需根據(jù)不同的工藝選擇能相容該產(chǎn)品的濾芯。
Entegris-ANOW 濾芯
Entegris-Anow是一家高分子微孔膜過濾企業(yè),專業(yè)從事MCE、Nylon、PES、PVDF、PTFE等(膜孔徑為0.03μm~10μm)微孔膜的研發(fā)及生產(chǎn),具有二十多年服務(wù)與醫(yī)藥客戶經(jīng)驗(yàn),并為全球生物制藥、醫(yī)療器械、食品飲料、實(shí)驗(yàn)室分析、微電子及工業(yè)等領(lǐng)域的客戶提供過濾、分離和凈化解決方案。
Entegris與Anow的結(jié)合,引入Entegris質(zhì)量管理體系,每一支濾芯都經(jīng)過嚴(yán)格檢查,此外,新建成的CTC驗(yàn)證中心,為全球客戶提供專業(yè)的驗(yàn)證服務(wù)。
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[2] . 安可榮,黃昌蓉,陳偉健.鈦酸鋇粉體粒徑對MLCC性能的影響[J].電子工藝技術(shù),2020,41(05):295-297.DOI:10.14176/j.issn.1001-3474.2020.05.013.
[3] 劉偉峰.高效分散處理的MLCC陶瓷漿料性能分析[J].電子工藝技術(shù),2021,42(06):353-356.DOI:10.14176/j.issn.1001-3474.2021.06.012.